TS EN ISO 14343-AW 19 9 LEN ISO 14343-AW 19 9 LAWS A5.9ER 308 LA hegesztőhuzal kémiai összetétele % (tipikus)C0,02Si0,50Mn1.70Kr20.10Ni9.80T ipikus alapanyag minőségek X2CrNi 1911,...
TS EN ISO 14343-AW 19 9 LEN ISO 14343-AW 19 9 LAWS A5.9ER 308 LA hegesztőhuzal kémiai összetétele % (tipikus)C0,02Si0,50Mn1.70Kr20.10Ni9.80T ipikus alapanyag minőségek X2CrNi 1911,...
Nagy szilárdságú gyengén ötvözött és ötvözött hőkezelhető acélok, páncélacélok töltőhegesztése, acélok, köztük 14 % Mn, ferrites krómacélok, hőálló acélok, nem mágneses acélok stb...
TS EN ISO 14343-AW 19 9 LEN ISO 14343-AW 19 9 LAWS A5.9ER 308 LA hegesztőhuzal kémiai összetétele % (tipikus)C0,02Si0,50Mn1.70Kr20.10Ni9.80T ipikus alapanyag minőségek X2CrNi 1911,...
TS EN ISO 14343-AW 19 9 LEN ISO 14343-AW 19 9 LAWS A5.9ER 308 LA hegesztőhuzal kémiai összetétele % (tipikus)C0,02Si0,50Mn1.70Kr20.10Ni9.80T ipikus alapanyag minőségek X2CrNi 1911,...
Argonvédőgázas volframelektródás ívhegesztéshez. Kitűnő általános korrózióállóságú hegesztőanyag, különössen savas és klórtartalmú közegek ellen alkalmazható. Alkalmas még szemcseközi...
Argonvédőgázas volframelektródás ívhegesztéshez. Kitűnő általános korrózióállóságú hegesztőanyag, különössen savas és klórtartalmú közegek ellen alkalmazható. Alkalmas még szemcseközi...
Argonvédőgázas volframelektródás ívhegesztéshez. Kitűnő általános korrózióállóságú hegesztőanyag, különössen savas és klórtartalmú közegek ellen alkalmazható. Alkalmas még szemcseközi...
Oldalainkon a partnereink által szolgáltatott információk és árak tájékoztató jellegűek, melyek esetlegesen tartalmazhatnak téves információkat. A képek csak tájékoztató jellegűek és tartalmazhatnak tartozékokat, amelyek nem szerepelnek az alapcsomagban. A termékinformációk (kép, leírás vagy ár) előzetes értesítés nélkül megváltozhatnak. Az esetleges hibákért, elírásokért az Árukereső nem felel.
×
Az Árukereső.hu a jobb felhasználói élmény biztosítása érdekében és személyre szabott hirdetési céllal cookie-kat használ, amit az oldal használatával elfogad. Részletek.